气相扩渗法制备K0.75Nd0.042WO3钨青铜及电性能研究

摘要

通过高温固气反应对α-K10[SiW9Co3(OH2)3O37]进行了NdCl3的化学扩渗,XRD谱图分析表明,扩渗后,原化合物的笼型结构被破坏,生成了四方结构钨青铜化合物。X-射线光电子能谱、X-射线荧光分析和能谱分析表明微量的钕离子可渗入到化合物的体相中参与反应,其中,钕离子和原前驱体化合物中的钾离子成为添隙离子;产物分子式为K0.75Nd0.042WO3。该材料室温下导电率σ为0.34 S.cm-1。