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牛仕超; 余志明; 代明江; 林松盛; 侯惠君; 李洪武;
中南大学,材料科学与工程学院,长沙,410083;
广州有色金属研究院,材料表面工程研究所,广州,510651;
CrC; 中频磁控溅射; 离子源; 附着力;
机译:衬底偏压对中频磁控溅射沉积CrN薄膜组织和残余应力的影响
机译:带有和不带有离子源辅助的中频磁控溅射沉积CrN_x涂层的结构和力学性能
机译:高速中频磁控溅射沉积CrN厚膜的结构和力学性能
机译:CRN单层薄膜和Cr / CRN多层膜的内应力评价,用铝合金基材沉积应力梯度
机译:溅射沉积Cr / CrN涂层的加工结构与性能的关系。
机译:模拟海洋环境下梯度偏置设计对PVD CrN薄膜电化学和摩擦学行为的影响
机译:采用非平衡磁控溅射技术制备Cr / CrN纳米多层膜的非均衡磁/电性能溅射技术制备Cr-CrN纳米多层膜的电学性能
机译:CrN / au和Cr / CrN / au多层膜的性质
机译:通过在工具表面沉积TiAlCrN多层薄膜,金属Cr层和CrN薄膜,在表面涂覆硬质合金,具有出色的耐磨性和润滑特性
机译:一种基于辉光放电等离子体化学气相沉积技术,利用CR和NI的金属有机前驱体生产CRN和NI的NI涂层和复合涂层
机译:磁控溅射膜沉积装置,磁控溅射膜沉积方法以及使用该方法制造的膜成员
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