新型智能电化学微加工系统的研究

摘要

约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术.本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发.利用研制的加工仪器,在半导体GaAs进行刻蚀加工,复制出微孔阵列,其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合得很好,同时在铜板上也成功进行了微孔刻蚀加工.