电刷镀Cu/Ni纳米多层膜镀液的研究

摘要

应用扫描电子显微镜(SEM)对电刷镀Cu、Ni薄膜表面形貌进行了观察,并对膜层进行了能谱(EDS)成分分析。结果表明:改变镀液配比和沉积电压,镀层的成分和沉积速率都有明显的变化;在适当的镀液配比下,控制沉积电位,可以分别刷镀出Cu镀层和Ni镀层;控制沉积时间,可以实现纳米多层膜的制备;镀层的生长方式以沿晶外延生长为主,当沉积电压增高时,还伴随有新的晶核的形成和取向择优生长。