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叶亚宽; 张弓; 庄大明;
清华大学机械工程系;
ZnS薄膜; 联氨浓度; 化学水浴沉积(CBD);
机译:氨浓度对化学浴沉积Cd_(1-x)Zn_xS薄膜性能的影响
机译:锰浓度对电沉积技术沉积在ITO(玻璃)衬底上的Mn〜(2+)掺杂ZnS薄膜物理和电化学性能的影响
机译:氨浓度对化学浴沉积制备的Nio纳米薄膜阵列微观结构和电化学性能的影响
机译:Cd浓度对化学浴沉积(CD:Zn)薄膜的结构,形态学和光学性质的影响
机译:通过化学气相沉积法沉积的钌薄膜的生长和表征:增强成核和薄膜性能。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:氨和Na2EDTA对化学浴沉积ZnS薄膜性能的影响
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响
机译:用于电化学沉积Cu-Sn-Zn-Pd合金的电化学浴,用于所述合金的电化学沉积的程序,包含所述合金的基材以及该基材的用途
机译:用于电化学沉积Cu-Sn-Zn-Pd合金的电化学镀浴,用于所述合金的电化学沉积的程序,包含所述合金的基材以及该基材的用途
机译:用于化学沉积和化学沉积钴-磷合金,镍-磷合金和/或钴-镍-磷合金的稳定水浴
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