两个多核四硫代富瓦烯类衍生物的合成和电化学行为

摘要

合成了２个含３个四硫代富瓦烯单元的化合物，给出了它们的核磁共振氢谱、质谱、紫外吸收光谱及元素分析数据。用循环伏安法测定了它们的氧化还原电位，并将其与仅含１个或２个四硫代富瓦烯单元的化合物的氧化还原电位比较。发现随着分子内共轭程度的增加，分子内的库仑斥力也随之降低。