IA/AA/AMPS/HPMA四元聚合物的合成及其性能

摘要

采用水溶液聚合法制备得到四元聚合物阻垢剂(IA/AA/AMPS/HPMA),并对其进行定性表征分析(核磁共振氢谱分析、红外光谱分析、XRD分析、GPC分析、热重分析)。基于单因素法,通过静态阻垢试验对此阻垢剂的阻垢性能进行了分析。结合实验数据可知,在80℃温度条件下,采用8%引发剂,按照mIA∶mAA∶mHPMA∶mAMPS=4.5∶1∶0.5∶1的比例进行3h的反应是最佳合成条件。在70℃阻垢温度下投入40mg·L^(-1)该聚合物阻垢剂,进行10h的阻垢反应,可以成功阻垢84.5%的CaCO_(3);在40℃阻垢温度下,投入同等量的阻垢剂,反应6h,可成功阻垢84.2%的CaSO_(4)。