大樱桃矮化砧木吉塞拉的组培繁育及问题研究

摘要

德国培育的“吉塞拉”系列樱桃砧木具有使樱桃结果早,抗根癌病及矮化树形等优点.就“吉塞拉”系列砧木在组培繁育过程中影响组培苗的成活及其长势的一系列因素展开研究,结果表明:组培苗的生长受培养基类型、生长调节剂配比、光照、温度、继代周期、基质的影响.试验发现组培苗最适宜的生长调节剂配比为6-BA 0.5 mg/L,IBA 0.1 mg/L,琼脂的硬度控制在8.5～9g/L,距离光源距离10～15 cm,温度控制在25℃±2℃,继代周期以4周左右为宜,在上述条件下组培苗均能保持很好的长势及增殖率.探索出樱桃砧木进瓶、组培快繁、出瓶、移栽等技术环节应该注意的问题.