Littrow装置的光栅总特民生和能流分布

摘要

运用能流分布的观点解释了光栅各种特性对槽深所依存在的某些条件下的准确周期性，对于具有一个或两个衍射级的两种光栅，能流图中涡流的形成以槽深ｈ为函数，建立了浅光栅和深光栅之间的等量关系，槽上方的能流分布（ＥＦＤ）相同，而在深光栅中存在一定数目的涡流，它们都藏于每一沟槽的内部。完全闪耀和反闪耀（ａｎｔｉ－ｂｌａｚｉｎｇ）与这些涡流相对于沟槽顶端的位置密切相关。