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李梦琦; 孙鸣; 马忠臣;
河北工业大学电子信息工程学院;
天津市电子材料与器件重点实验室;
化学机械抛光; 络合剂; 铜; 去除速率; 表面形貌;
机译:酒石酸作为用于CMP中选择性去除钽和铜的络合剂
机译:新型耐铜细菌 CR3对CMP废水中Cu 2 + sup>的生物去除:特征与机理
机译:用于双大马士革技术的铜CMP:关于铜去除机理的一些考虑
机译:轨道抛光机中CMP无磨铜CMP的机械去除机理。
机译:单晶铜的基于切削的单原子层去除机理:边缘半径效应
机译:浆料在CMP工艺材料去除机理中的基本作用研究
机译:act系键络动力学:二氧膦(Ⅴ)与偶氮氯膦Ⅲ反应的速率和机理
机译:预测CMP工艺工具中CMP工艺的CMP去除速率以确定所需抛光时间的方法
机译:包含胶体颗粒,氧化剂,络合剂,抗氧化剂,胺基pH调节剂和水的铜抛光剂的CMP的淤浆成分,以及使用该成分的CMP方法
机译:可调谐氧化硅和氮化硅去除速率的STI CMP浅沟槽隔离STI化学机械平面化CMP抛光
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