绿豆下胚轴质膜氧化还原系统及其对水分胁迫的反应

摘要

绿豆幼苗下胚轴质膜存在有能氧化NADH和还原K3Fe(CN)6的氧化还原系统.其最适pH为7.5,最适温度为40℃,去垢剂Triton X-100对膜制剂的氧化还原活性有促进作用.外源电子供体NADH和电子受体K3Fe(CN)6的加入可促进下胚轴组织的H+分泌.水分胁迫下活体质膜和离体质膜的K3Fe(CN)6还原活性都下降,变化趋势相似.