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王振宇; 曾九孙; 高鹤; 王仕建; 徐达; 钟青; 李劲劲; 王雪深;
中国计量大学计量测试工程学院;
中国计量科学研究院;
计量学; Nb/Al-AlO x/Nb约瑟夫森结; 磁控溅射; 靶基距; 薄膜沉积;
机译:Nb薄膜表面形态对Nb / AlO_x-Al / Nb约瑟夫森结的亚隙漏电特性的影响
机译:射频溅射Nb / Al-AlOx / Nb Josephson SNAP结的性质
机译:使用面对靶溅射制备的Nb / Al-AlOx-Al / Nb Josephson结的亚隙漏电流
机译:面向靶溅射制备Nb / Al-AlOx-Al / Nb约瑟夫森结的特性
机译:溅射沉积外延(1-x)Pb(Mg1 / 3Nb2 / 3)O3-- xPbTiO3薄膜的结构性质关系。
机译:不同沉积参数下溅射法制备Nb2O5减反射薄膜的研究
机译:用原位磁控管制备Nb / al2O3 / Nb约瑟夫森结 溅射和原子层沉积
机译:用于制造亚微米约瑟夫森结和低噪声直流sQUID的Nb / alOx / Nb三层工艺
机译:Ti-Nb基氧化物烧结溅射靶,相同薄膜的制造方法和Ti-Nb基氧化物薄膜
机译:烧结的Ti-Nb基氧化物的溅射靶,Ti-Nb基氧化物的薄膜及其制造方法
机译:烧结Ti-Nb基氧化物的溅射靶,Ti-Nb基氧化物的薄膜及其制造方法
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