Colorado School of Mines.;
III-V semiconductors; Nanofabrication; Nanoimprint lithography;
机译:D4H / D4V硅树脂:具有纳米压印光刻和毛细管力光刻的多项优势的仿制材料
机译:使用纳米压印光刻和反应离子刻蚀工艺制备纳米级相变材料
机译:利用生物质开发纳米压印光刻模板材料
机译:使用Nanoimprint Lipgraphication in Si图案的GaAs的选择性区域生长
机译:用于纳米压印光刻的新型有机硅材料和图案化技术。
机译:使用纳米压印光刻技术在硅基板上选择性图案化ZnO纳米棒
机译:使用纳米压印光刻技术在硅基板上选择性图案化ZnO纳米棒
机译:用倒带生长工艺开发和评价用于硅丝生长的模具材料。任务二。 Lsa项目。最终报告,1977年10月1日至1979年3月31日