The University of Texas at Dallas;
机译:碳氟化合物ICP等离子体中Si和SiO2的蚀刻机理:通过质谱,朗缪尔探针和光发射光谱法分析等离子体
机译:循环段塞流化床反应器中的流化行为。第一部分:聚乙烯固体的停留时间和停留时间分布
机译:岩溶综合体中的深水循环,停留时间和化学
机译:基于氟碳的抗涂抹涂层,由平面R.F.IC等离子体源进行显示应用
机译:在感应耦合的改性气态电子会议(mGEC)反应器中研究碳氟化合物等离子体中的气相,表面化学和等离子体-表面相互作用。
机译:非热等离子体反应器中氮氧化物去除停留时间的评估
机译:非热等离子体反应器中氮氧化物去除的停留时间评价。