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Physical Mechanism and Fundamental Performance Limits on Graphene Non-Volatile Memory Technologies.

机译:石墨烯非易失性存储技术的物理机制和基本性能限制。

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摘要

Non-volatile memory (NVM) constitutes a vital portion in electronics to retain information for both archiving and data processing. Limitations encountered in flash technology upon increasing density and reducing cost by scaling necessitates alternative memory structures beyond complementary-metal-oxide-semiconductor (CMOS). The single atomic two-dimensional profile and the superior physical properties of graphene allow advancements in a variety of memory metrics when implemented into several types of memory architectures. In this dissertation, two prototype NVM memory technologies: graphene floating-gate flash memory and graphene ferroelectric memory is thoroughly analyzed and the performance advancements and challenges that arise compared to its predecessors are discussed.
机译:非易失性存储器(NVM)构成电子设备中至关重要的部分,可以保留信息以进行归档和数据处理。闪存技术在增加密度和通过缩放降低成本方面遇到的局限性使得必须使用互补金属氧化物半导体(CMOS)以外的替代存储结构。当实现为几种类型的内存体系结构时,石墨烯的单原子二维轮廓和优越的物理性能允许在各种内存指标上取得进步。本文对两种原型NVM存储技术:石墨烯浮栅闪存和石墨烯铁电存储器进行了详尽的分析,并讨论了其性能和面临的挑战。

著录项

  • 作者

    Song, Emil Beom.;

  • 作者单位

    University of California, Los Angeles.;

  • 授予单位 University of California, Los Angeles.;
  • 学科 Engineering Electronics and Electrical.;Nanotechnology.;Nanoscience.
  • 学位 Ph.D.
  • 年度 2012
  • 页码 100 p.
  • 总页数 100
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

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