University of Puerto Rico, Mayaguez (Puerto Rico).;
机译:山梨酸钾作为铜化学机械平面化浆料中的抑制剂。第二部分:山梨酸酯对化学机械平面化性能的影响
机译:微机电系统和集成电路中厚铜膜的化学机械平面化方法
机译:使用过渡氧化铝纳米粒子对铜进行化学机械平面化
机译:通过新型分离方法除去铜化学机械平坦化废物的纳米颗粒
机译:二氧化硅,铜和钨化学机械平面化过程的新型研究与垫调节和微观纹理,浆料纳米粒子,摩擦学和动力学相关
机译:壳聚糖介导的铜纳米粒子:化学方法的合成与表征
机译:使用大型图案测试掩模直接测量铜化学机械平面抛光(cmp)工艺的平面长度