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致谢
摘要
1 绪论
1.1 课题的研究背景
1.2 微弧氧化技术的发展现状
1.2.1 浸入式微弧氧化技术研究现状
1.2.2 扫描式微弧氧化技术研究现状
1.3 课题主要研究内容
2 AlSi7Mg0.3合金的扫描式微弧氧化工艺
2.1 扫描式微弧氧化装置设计
2.2 实验方法
2.2.1 实验材料
2.2.2 微弧氧化设备
2.2.3 微弧氧化工艺流程
2.2.4 电解液体系
2.2.5 正交实验设计
2.2.6 陶瓷层分析手段
2.3 扫描式微弧氧化电源
2.3.1 直流电源测试
2.3.2 交流电源测试
2.4 工艺参数的影响
2.4.1 阴极传动速度的影响
2.4.2 阴阳极间距离与电源档位的影响
2.5 陶瓷层叠加实验
2.6 本章小结
3 浸入式与扫描式微弧氧化陶瓷层组织与性能对比研究
3.1 陶瓷层生长速率
3.2 陶瓷层微观形貌
3.2.1 表面形貌
3.2.2 截面形貌
3.3 陶瓷层组成分析
3.3.1 陶瓷层的元素组成
3.3.2 陶瓷层相组成
3.4 陶瓷层显微硬度
3.5 陶瓷层耐腐蚀性能分析
3.6 本章小结
4 扫描式微弧氧化成膜机理
4.1 扫描式微弧氧化弧光放电原理
4.2 扫描式微弧氧化过程中化学与电化学反应
4.3 扫描式微弧氧化中的电场电源特性
4.4 扫描式微弧氧化的成膜分析
4.5 本章小结
5 结论
参考文献
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