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第一章 绪论
1.1同步辐射光源
1.1.1 同步辐射的发展历程
1.1.2同步辐射光的特点
1.2 XAFS方法
1.2.1 XAFS的基本原理
1.2.2 XAFS技术的特点
1.2.3 XAFS产生的物理机理
1.3稀磁半导体
1.3.1稀磁半导体的概念
1.3.2稀磁半导体的磁性来源
1.3.3稀磁半导体的研究进展
1.4 ZnO 基稀磁半导体薄膜的研究意义
1.4.1 ZnO的基本性质
1.4.2 ZnO基稀磁半导体的研究进展
1.5本论文的选题依据及主要研究内容
参考文献
第二章 样品制备及实验表征方法介绍
2.1脉冲激光沉积技术(PLD)
2.1.1 PLD技术的基本原理:
2.1.2 PLD技术的特点
2.2实验表征手段
2.2.1 X射线衍射
2.2.2磁性测试仪
2.2.3光电子能谱分析
2.2.4 XAFS实验方法
参考文献
第三章 O空位在Zn0.98Co0.02O稀磁半导体薄膜中扮演的角色
3.1引言
3.2样品的制备
3.3结果与分析
3.3.1 XRD测量结果
3.3.2SQUID测量结果
3.3.3 XAFS结果与分析
3.3.4 XANES结果与分析
3.4小结
参考文献
第四章 Cr调控Co原子在Co∶ZnO稀磁半导体薄膜中的分布形式的机理研究
4.1引言
4.2样品的制备
4.3实验表征及结果分析
4.3.1 X射线衍射XRD
4.3.2 XAFS结果与分析
4.3.3 XPS结果与分析
4.4结论
参考文献
已发表论文:
致 谢
中国科学技术大学;