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胡璇;
武汉理工大学;
机译:脉冲等离子体化学气相沉积法制备纳米多孔非晶碳化硼薄膜的摩擦学和热稳定性研究
机译:等离子体增强化学气相沉积法合成碳化硼薄膜及其表征
机译:微波等离子体化学气相沉积法生长碳化硼薄膜
机译:大气压化学气相沉积法制备多晶硅锗薄膜的制备及残余应力表征
机译:化学气相沉积法制备的金属氧化物薄膜用于光催化水分解
机译:新型单固体源金属有机化学气相沉积法制备pbTiO {sub 3}和pb(Zr {sub x} Ti {sub 1 {minus} x})O {sub 3}薄膜
机译:金属有机化学气相沉积法制备CuInS 2 Sub>薄膜的方法,用该方法制备的CuInS 2 Sub>薄膜及其In 2 Sub> S的制备方法 3 Sub>薄膜
机译:用化学气相沉积法制备聚合物绝缘薄膜的方法及用该方法制备的聚合物绝缘薄膜
机译:Si Si Ni化学气相沉积法在硅基体上制备镍薄膜的方法以及在硅基体上制备硅化镍薄膜的方法
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