声明
第一章 绪论
1.1 引言
1.2 铁电材料与铁电薄膜
1.3 HfO2与ZrO2材料研究现状
1.4 掺杂对HfxZr(1-x)O2薄膜的影响
1.5 论文选题方案及其结构安排
第二章 薄膜生长工艺及结构表征与性能分析
2.1 薄膜的常见制备方法
2.2 脉冲激光沉积技术简介
2.3 薄膜微观结构表征方法
2.4 薄膜电学性能测试
第三章 Al掺杂Hf0.5Zr0.5O2薄膜生长研究及性能测试
3.1 Al掺杂Hf0.5Zr0.5O2薄膜的制备
3.2 对1.03 mol%Al掺杂Hf0.5Zr0.5O2薄膜工艺参数的探索
3.3 最佳工艺参数下1.03 mol%Al掺杂Hf0.5Zr0.5O2薄膜的结构与性能特征
3.4 本章小结
第四章 Al含量对Hf0.5Zr0.5O2薄膜结构及性能的影响
4.1 不同Al含量的Hf0.5Zr0.5O2薄膜最佳工艺参数研究
4.2 不同Al含量的Hf0.5Zr0.5O2薄膜结构分析
4.3 不同Al含量的Hf0.5Zr0.5O2薄膜电学性能分析
4.4 本章小结
第五章 总结
致谢
参考文献
攻读硕士期间取得的研究成果
电子科技大学;
