电化学插层法制备钠钨青铜及性能研究

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摘要

第1章绪论

1．1超导体的发展史

1．2超导体的应用

1．3超导体的分类

1．4氧化物超导体研究进展

1．5钨青铜研究现状

1．5．1钨青铜的结构

1．5．2钨青铜的性质

1．5．3钨青铜的制备方法

1．6课题研究的目的、意义及内容

1．6．1研究的目的及意义

1．6．2研究内容

第2章实验及研究方法

2．1实验仪器及试剂

2．1．1实验仪器

2．1．2化学试剂

2．2钠钨青铜薄膜的制备方法

2．2．1电化学阳极氧化法制备WO3薄膜

2．2．2热处理工艺

2．2．3电化学插层法制备钠钨青铜薄膜

2．3材料的微观结构及成分分析

2．3．1材料的微观结构

2．3．2材料的物相分析

2．4材料的电化学分析及磁学性能测试

2．4．1电化学分析

2．4．2磁学性能测试

第3章纳米多孔 WO3薄膜制备及电化学分析

3．1．1反应时间对WO3薄膜形貌的影响

3．1．2 NH4F浓度对WO3薄膜形貌的影响

3．1．3阳极氧化电压对WO3薄膜形貌的影响

3．1．4氧化温度对WO3薄膜形貌的影响

3．2纳米多孔WO3薄膜的热处理工艺

3．2．1热处理工艺及物相分析

3．2．2热处理工艺对WO3薄膜形貌的影响

3．3纳米多孔WO3薄膜的电化学分析

3．3．1纳米多孔WO3薄膜的LSV曲线分析

3．3．2纳米多孔WO3薄膜的CV曲线分析

3．3．3纳米多孔WO3薄膜的i-t曲线分析

3．4本章小结

第4章电化学插层法制备钠钨青铜及其磁学性能研究

4．1电化学插层法制备钠钨青铜

4．1．1电化学插层时间对钠钨青铜制备的影响

4．1．2电解液浓度对钠钨青铜制备的影响

4．1．3光照强度对钠钨青铜制备的影响

4．2 SQUID磁性测量

4．3本章小结

第5章结论

参考文献

致谢

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