线状阳极近阴极扫描式电沉积微细制件均匀性研究

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1 绪论

1.1微细电沉积加工技术研究进展

1.1.1 局区生长电沉积

1.1.2 电化学打印

1.1.3 射流电沉积

1.1.4 即膜沉积

1.1.5 Electrochemical fabrication (EFAB)

1.1.6 掩膜电沉积

1.2掩膜电沉积加工技术的均匀性研究进展

1.2.1 掩膜电沉积尺度效应方面

1.2.2 掩膜电沉积电流分布方面

1.2.3 掩膜电沉积液相传质方面

1.3本文主要研究内容和创新点

1.3.1 本文主要研究内容及意义

1.3.2 本文主要创新点

2 掩膜电沉积加工的理论与技术基础

2.1电沉积基础理论

2.1.1 法拉第定律

2.1.2极间电场分布

2.1.3 液相传质理论

2.2电沉积制件厚度分布特性

2.3脉冲电沉积基础理论

2.4 掩膜图形结构制备工艺基础

2.4本章小结

3 线状阳极近阴极扫描式微细电沉积均匀性仿真分析

3.1加工原理

3.2 物理模型

3.3控制方程和边界条件

3.4初始条件与仿真过程

3.5 结果与讨论

3.5.1近阴极区域流场分布

3.5.2阴极表面电流分布

3.5.3厚度轮廓及均匀性

3.6 本章小结

4.线状阳极近阴极扫描式电沉积微细制件均匀性实验研究

4.1实验系统

4.2研究方案与实验条件

4.3条件参数对微细制件均匀性的影响

4.3.1加工间隙的影响

4.3.2加工电压的影响

4.3.3扫描速度的影响

4.3.4沉积速率

4.4宏微尺度电沉积制件均匀性实验研究与分析

4.4.1宏微复合制件特征之间的均匀性

4.4.2 宏/微复合制件阵列特征的均匀性

4.6本章小结

5.结论与展望

5.1.结论

5.2展望

参考文献

作者简历

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