声明
1 绪论
1.1 引言
1.2 国内外研究现状
1.2.1 SPP（表面等离子激元）介绍
1.2.2 非金属材料的SPP
1.2.3 周期性结构的SPP
1.2.4 杂化SPP模式波导
1.2.5 半导体SPP的调控
1.3 本论文的主要研究内容
2 MOS结构的理论基础
2.1 引言
2.2 MOS结构的工作原理
2.3 积累工作模式下MOS结构中的载流子浓度分布
2.4 Drude模型和半导体的复介电常数
2.5 不同结构参数对载流子浓度及介电常数分布的影响
2.5.1 基本结构
2.5.2 掺杂浓度的影响
2.5.3 外加电压下的影响
2.5.4 氧化物厚度的影响
2.6 小结
3 MOS一维平板结构的模式分析
3.1 引言
3.2 一维MOS平板结构中的电磁模式
3.3 MOS结构中SPP模式的有效折射率
3.4 MOS结构中SPP模式的色散曲线
3.5 MOS结构中SPP模式的传播长度
3.6 MOS结构中SPP模式的模场限制
3.7 小结
4 MOS结构中SPP模式的调控
4.1 引言
4.2 氧化物厚度对SPP模式的调控作用
4.3 掺杂浓度对SPP模式的调控作用
4.4 外加电压对SPP模式的调控作用
4.5 小结
5 二维MOS结构SPP波导的研究
5.1 引言
5.2 半导体脊形结构SPP模式分析
5.2.1 半导体脊形结构SPP结构
5.2.2 半导体脊形MOS中模场分布
5.2.3 半导体脊形MOS结构中的多侧模现象和脊宽w的影响
5.2.4 半导体脊形MOS结构中SPP模式的模式特性
5.3 金属条形MOS结构
5.4 小结
6 总结与展望
6.1 总结
6.2 展望
致谢
参考文献
附录 攻读学位期间发表的论文
