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目录
第一章 绪论
§1. 1 课题研究背景及意义
§1. 2 扫描电子束表面处理的工艺特点
§1. 3 国内外微观凝固组织数值模拟的研究现状
§1. 4 课题的来源
§1. 5 论文的主要内容及创新点
第二章 扫描电子束表面处理熔池凝固模拟理论基础
§2. 1 扫描电子束表面处理熔池凝固规律
§2. 2 微观组织的数值分析方法
§2. 4 本章小结
第三章 扫描电子束表面处理温度场的计算
§3. 1 扫描电子束表面处理过程温度场的形成
§3. 2 扫描电子束表面处理温度场模型的建立
§3. 3 软件调用与温度场后处理
§3. 4 本章小结
第四章 扫描电子束表面处理熔池晶粒生长的蒙特卡罗( MC )模型的建立及仿真结果分析
§4.1 蒙特卡罗(MC)模拟晶粒生长原理
§4. 2 MC法模拟晶粒长大的动力学模型
§4. 3 扫描电子束表面处理熔池晶粒生长模拟的MC模型的建立
§4. 4 恒温MC法晶粒生长模拟
§4. 5 模拟结果分析
§4. 6 本章总结
第五章 扫描电子束表面处理熔池的晶粒生长的实验研究与仿真结果验证
§5. 1 实验材料、设备与方法
§5.2 电子束工艺参数的选择
§5. 3实验结果分析
§5. 4 扫描电子束工艺参数对熔池晶粒生长的影响
§5. 5 本章总结
第六章 总结与展望
§6. 1 全文总结
§6. 2 展望
参考文献
致谢
作者在攻读硕士期间主要研究成果