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目录
第一章 绪论
1.1引言
1.2薄膜晶体管
1.3非晶氧化物薄膜晶体管
1.4研究意义及研究内容
第二章 薄膜晶体管器件的制备与表征方法
2.1 器件的制备
2.2薄膜特性的表征
2.3器件性能的表征
2.4本章小结
第三章a-IGZO TFT工艺条件及器件稳定性的初步研究
3.1引言
3.2a-IGZO TFT工艺条件的确立
3.3a-IGZO TFT偏压稳定性
3.4本章小结
第四章a-IGZO TFT保护层厚度对器件光照稳定性的影响
4.1引言
4.2不同保护层厚度的a-IGZO TFT光照稳定性实验
4.3a-IGZO TFT光照恢复实验
4.4a-IGZO TFT光照稳定性的分析与讨论
4.5 a-IGZO TFT偏置电压下光照稳定性的研究
4.6本章小结
第五章a-IGZO TFT有源层氧流量对器件光照稳定性的影响
5.1引言
5.2 实验方法
5.3 实验结果与讨论
5.4本章小结
第六章 总结与展望
6.1论文主要内容总结
6.2研究展望
参考文献
致谢
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文
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