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【6h】

反应磁控溅射制备AZO薄膜及其不稳定性

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引言

1 绪论

1.1 AZO薄膜的性质

1.1.1 ZnO的晶体结构

1.1.2 ZnO的电学性质

1.1.3 ZnO的光学性质

1.1.4 AZO薄膜的电学性质

1.1.5 AZO薄膜的光学性质

1.2 AZO薄膜的应用

1.2.1 AZO薄膜在太阳能电池方面的应用

1.2.2 AZO薄膜在平板显示器上的应用

1.2.3 AZO薄膜在气敏传感器方面的应用

2 AZO薄膜的制备工艺及表征方法

2.1 磁控溅射设备及在线光谱测量系统

2.2.1 磁控溅射的基本原理

2.2.2 JGP-450型磁控溅射系统

2.2.3 等离子体发射光谱测量系统

2.3 AZO薄膜的结构和形貌表征

2.3.1 晶体结构分析

2.3.2 表面和截面形貌分析

2.4 AZO薄膜的透射光谱测量

2.4.1 透射光谱测量系统

2.4.2透射光谱拟合原理

2.5 AZO薄膜的电学性质测量

2.5.1 四探针电阻测量仪

2.5.2 Hall测量仪

3 反应射频放电等离子体的特征及其不稳定性

3.1 实验方法及参数设置

3.2 等离子体光谱的分析方法

3.3 放电参数对等离子体的影响

3.3.1 电子激发温度和氧原子密度随工作气压的变化

3.3.2 电子激发温度和氧原子密度随O2分压的变化

3.3.3 基片温度对反应磁控溅射等离子体的影响

3.4 反常的金属-氧化周期性振荡模式

3.4.1 金属-氧化周期性振荡模式的发现

3.4.2 金属-氧化周期性振荡模式下的等离子体特性

3.5 本章小结

4 氧原子在反应磁控溅射沉积AZO薄膜中的作用

4.1 实验方法及参数设置

4.2 氧分压与沉积速率和氧原子密度的关系

4.3 氧原子密度对AZO薄膜光电性能的影响

4.4 利用金属-氧化周期性振荡模式制备多层膜

4.5 本章小结

5 沉积温度对AZO薄膜光电特性的影响

5.1 实验方法及参数设置

5.2 AZO薄膜的形貌和结晶质量随沉积温度的变化

5.2.1 AZO薄膜在蓝宝石基片上的生长行为

5.2.2 AZO薄膜在石英基片上的生长行为

5.3 AZO薄膜的电学和光学性质随沉积温度的变化

5.3.1 蓝宝石基片上生长的AZO薄膜的光电性质

5.3.2 石英基片上生长的AZO薄膜的光电性质

5.4 本章小结

结论

参 考 文 献

攻读硕士学位期间发表学术论文情况

致 谢

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著录项

  • 作者

    韩岩岩;

  • 作者单位

    大连理工大学;

  • 授予单位 大连理工大学;
  • 学科 凝聚态物理
  • 授予学位 硕士
  • 导师姓名 张庆瑜;
  • 年度 2019
  • 页码
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 中文
  • 中图分类
  • 关键词

    反应; 磁控溅射制备; AZO薄膜;

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