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第一章文献综述
§1.1引言
§1.2高聚物的种类
§1.3高聚物微流控芯片的加工方法
§1.3.1加工阳模的方法
§1.3.2热压成型
§1.3.3浇铸成型
§1.3.4注射成型
§1.3.5激光烧蚀法
§1.3.6立体光刻
§1.3.7厚光胶光刻
§1.4高聚物微流控芯片的封装
§1.4.1热键合
§1.4.2层压法
§1.4.3胶水粘合
§1.4.4等离子体活化
§1.4.5界面化学反应
§1.5高聚物微流控芯片的改性
§1.5.1紫外激光处理
§1.5.2等离子体处理
§1.5.3表面接枝
§1.5.4表面涂层
§1.5.5化学反应
§1.6高聚物微流控芯片的应用
§1.6.1 DNA分离
§1.6.2氨基酸分离
§1.7参考文献
第二章单晶硅阳模的制作
§2.1引言
§2.2实验部分
§2.2.1仪器及试剂
§2.2.2单晶硅阳模制作
§2.3结果与讨论
§2.3.1牺牲层的选择
§2.3.2光胶及涂胶
§2.3.3光胶与硅片间的粘附力
§2.3.4曝光
§2.3.5显影
§2.3.6 SiO2刻蚀
§2.3.7硅片刻蚀
§2.3.8硅阳模的寿命
§2.4结论
§2.5参考文献
第三章PDMS微流控芯片的制作及应用
§3.1引言
§3.2实验部分
§3.2.1仪器及试剂
§3.2.2芯片粘接强度测定试验
§3.2.3 PDMS微流控芯片的制作
§3.2.4氧气氛处理PDMS芯片
§3.2.5芯片毛细管电泳
§3.3结果与讨论
§3.3.1固化温度和配比对PDMS固化速度的影响
§3.3.2 PDMS芯片的封接
§3.3.3 PDMS芯片的氧气氛处理
§3.3.4 PDMS芯片氧气氛改性机理
§3.3.5氨基酸的芯片毛细管电泳分离
§3.4结论
§3.5参考文献
第四章聚碳酸酯基质微流控芯片的制作
§4.1引言
§4.2实验部分
§4.2.1仪器及试剂
§4.2.2热压机的搭建
§4.2.3 PC芯片的热压封接
§4.3结果与讨论
§4.3.1热压成型
§4.3.2 PC微流控芯片的封接
§4.3.3热压系统
§4.3.4硅阳模的寿命
§4.4结论
§4.5参考文献
第五章聚碳酸酯微流控芯片在DNA分离上的应用
§5.1引言
§5.2实验部分
§5.2.1仪器
§5.2.2试剂
§5.2.3溶液配制
§5.2.4 DNA电泳分离
§5.2.5数据处理
§5.3结果与讨论
§5.3.1筛分介质的选择
§5.3.2 HPMC-50浓度对DNA分离的影响
§5.3.3分离距离对DNA分离的影响
§5.3.4温度对DNA分离的影响
§5.4结论
§5.5参考文献
附录 攻读博士学位期间完成的论文和工作
致谢
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