基于等离子体材料和硅的亚波长光子器件的研究

摘要

如何减小波导和器件的尺寸是如今集成光学中存在的一个关键问题。由于受到衍射极限的限制，光子学器件很难缩小到波长以下的范围之内。本论文旨在，从理论上和实验上，研究一些亚波长以及纳米尺度下的集成光子学器件，我们讨论了用于减少光子学器件尺寸或者增加其功能性的一些方法，其中包括：基于硅纳米线、光子晶体、表面等离子体的波导及其相关器件。 首先，我们详细介绍了一些用于求解麦克斯韦方程组得数值计算方法，包括：时域有限差分法，以及仝矢量有限差分模式解。前者可以用来处理光场与介质结构相互作用的问题；后者主要用来求解一个波导结构中的本征模式场分布和传播常数。 接下来，我们对加工亚波长或纳米集成光子学器件的工艺方法进行了回顾。这些工艺主要是基于超净室的一些设备，其中主要包括：薄膜沉积、电子束光刻、以及刻蚀。提出了新型的无定形硅SOI结构。分析了各个工艺参数对实际制作结构的影响。我们还介绍了用于测试加工好的光子学器件的端面耦合测试方法。 我们在理论上研究了表面等离子体波导及器件。使用表面等离子体波导可以将光场限制在真正意义上的亚波长范围之内。分析了一些相应的非常小型的光子学器件，如：90°弯曲，定向耦合器，共振环滤波器。我们还通过一个实例，即：分支耦合器，验证了使用微波理论来指导设计表面等离子体波器件的可能性，为表面等离子体波器件提供了一个全新的设计途径。我们还分析了金属包层的扫描近场光学探针的一‘些性质，提出了对于等离子体探针的一种新型激励方式。 我们研究了硅纳米线波导以及相关器件。分析制作了具有11nm和1.6nm通道间隔的阵列波导光栅(解)复用器。在该器件中，我们使用重叠型自由传播区的设计，进一步减小了器件的尺寸。我们还设计制作了刻蚀衍射光栅器件。这些基于硅纳米线波导的器件尺寸通常为几百微米左右，比传统的二氧化硅上的相应期间缩小了1-2个数量级。研究了各种二维平板型光子晶体波导。基于一个具有负折射效应的硅柱光子晶体，我们提出了一种新型的光子晶体偏振分束器设计。经测试，该器件的工作波长范围很大，而且在整个范围内的消光比都可达到约15 dB。

目录

文摘

英文文摘

第1章绪论

1.1光子学的发展

1.2衍射极限及其对光子器件集成度的限制

1.3实现亚波长光子器件的方法及其研究现状

1.4本论文的研究内容及创新点

第2章数值模拟方法

2.1引言

2.2 时域有限差分方法

2.2.1基本公式

2.2.2引入色散

2.2.3边界条件

2.2.4光源的设置以及结果分析

2.2.5轴对称结构的简化处理

2.3全矢量有限差分模式解

2.3.1基本公式

2.3.2 E场形式与H场形式

2.4本章小结

第三章集成光学器件的制作以及检测方法

3.1引言

3.2薄膜沉积

3.2.1等离子体增强化学气相沉积

3.2.2电子束热蒸发

3.3图案生成

3.3.1电子束光刻

3.3.2光刻胶的选择

3.4图案转移

3.4.1反应离子刻蚀

3.4.2剥离

3.5端面耦合测试方法

3.6本章小结

第四章表面等离子体波导及器件

4.1引言

4.2表面等离子体波导

4.2.1 二维结构

4.2.2三维结构

4.3表面等离子体相关器件

4.3.1 90°弯曲

4.3.2定向耦合器

4.3.3共振环滤波器

4.3.4分支耦合器

4.3.5扫描近场光学探针

4.4本章小结

第五章基于硅的无源光子学器件

5.1引言

5.2硅纳米线波导及器件

5.2.1阵列波导光栅

5.2.2刻蚀衍射光栅

5.3硅光子晶体及器件

5.3.1光子晶体波导

5.3.2光子晶体偏振分束器

5.4本章小结

第六章总结与展望

参考文献

致谢

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