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第一章绪论
§1.1紫外薄膜研究的兴起与发展
§1.1.1准分子激光器的发展
§1.1.2紫外薄膜研究的发展与研究重点
§1.2紫外薄膜的特征
§1.3常用的紫外薄膜材料与制备方法
§1.3.1常用的紫外薄膜材料
§1.3.2制备紫外薄膜的基板
§1.3.3紫外薄膜的制备方法
§1.4评价紫外薄膜的主要参数
§1.5本课题的研究内容和特色
参考文献
第二章单层膜的制备与测试方法
§2.1引言
§2.2实验方案
§2.2.1实验设计
§2.2.2实验设备
§2.2.3 Al2O3单层膜制备步骤
§2.2.4 LaF3单层膜制备方法
§2.3本课题使用的紫外熔融石英基板光学特性的测试分析
§2.4测试仪器与计算方法
§2.4.1分光光度计
§2.4.2包络线法
§2.4.3 Zygo干涉仪
§2.4.4 SPI3800N原子力显微镜
§2.4.5 XRD测试
§2.5其它常用的测试与标定方法
§2.5.1光学特性测试
§2.5.2微结构测试
§2.5.3薄膜成分分析
参考文献
第三章单层膜实验结果分析
§3.1引言
§3.2 Al2O3与LaF3等不同材料的比较
§3.2.1不同材料在紫外区的透射特性比较
§3.2.2不同材料在紫外区的光学常数的比较
§3.2.3不同材料薄膜表面颗粒的比较
§3.2.4粗糙度(RMS)的比较与标量散射理论分析
§3.2.5不同材料薄膜结晶状况的比较
§3.3 Al2O3单层膜实验结果分析
§3.3.1沉积速率对Al2O3单层膜光学特性的影响
§3.3.2光学损耗分析
§3.3.3基板温度对Al2O3单层膜光学特性的影响
§3.3.4光学特性随时间的变化关系
§3.4 SiO2单层膜实验结果分析
§3.4.1沉积速率对光学特性的影响
§3.4.2光学特性随时间的变化关系
§3.5 LaF3单层膜实验结果分析
§3.5.1沉积速率对薄膜光学特性的影响分析
§3.5.2光学特性随时间的变化关系
§3.5.3沉积速率与结晶状况的关系研究
§3.5.4沉积速率的稳定性对薄膜应力的影响
§3.5.5基板温度对薄膜表面粗糙度的影响
§3.5.6基板温度与结晶状况的关系研究
§3.5.7薄膜表面缺陷分析
§3.6总结
参考文献
第四章多层膜理论设计与分析
§4.1引言
§4.2多层介质高反膜的理论基础
§4.3多层介质高反膜的设计方法
§4.4多层介质高反膜的设计结果分析
§4.4.1 LaF3/MgF2多层膜设计结果
§4.4.2高折射率材料的消光系数对薄膜反射率极限的影响分析
§4.4.3多层膜制备要点分析
§4.4结论
参考文献
第五章总结与展望
§5.1工作总结
§5.2工作展望
硕士期间完成的学术论文
致谢
