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1 引言
1.1 非均质半透明材质的表达
1.2 非均质半透明材质的绘制
1.3 半透明非均质材质的编辑
1.4 本文概览
2 基本理论
2.1 辐射测量学
2.2 双向次表面散射反射分布函数
2.3 光在介质中的传播
2.3.1 次表面散射
2.3.2 漫射理论和双极近似
2.4 绘制方程
2.5 表面细微结构
2.6 预计算辐射传输
2.7 图形硬件可编程流水线和CUDA工具
2.7.1 顶点/像素着色器
2.7.2 CUDA
2.8 小结
3 相关工作
3.1 预计算辐射传输
3.2 表面细节的建模及绘制
3.3 非均质半透明材质的建模和绘制
3.3.1 基于光路的模拟
3.3.2 基于简化模型的绘制
3.4 材质编辑
3.4.1 BRDF的编辑
3.4.2 BSSRDF的编辑
3.5 小结
4 具有表面细节的半透明非均质材质的实时绘制
4.1 算法概述
4.2 SRTF的定义
4.2.1 STF表达
4.2.2 SRTF表达
4.3 预计算
4.3.1 fshell和fcore的计算
4.3.2 Lc的计算
4.4 绘制
4.4.1 局部光照下的绘制
4.4.2 全局光照下的绘制
4.5 实验结果
4.6 小结
附图
5 针对测量数据的非均质半透明材质的编辑
5.1 算法概述
5.2 非均质次表面散射
5.3 表达
5.3.1 目标
5.3.2 SubEdit表达
5.3.3 表达测量数据
5.4 直观的编辑操作
5.4.1 直观的参数化
5.4.2 编辑的传递
5.5 编辑原型系统及可视化
5.5.1 编辑原型系统
5.5.2 编辑效果可视化
5.6 实验结果
5.7 小结
附图
6 动态非均质半透明材质的实时绘制
6.1 算法概述
6.2 相关算法比较
6.2.1 实时绘制算法
6.2.2 层次组织结构
6.3 BSSRDF表达
6.4 绘制框架
6.4.1 层次组织
6.4.2 运行时绘制
6.5 实验结果
6.6 小结
7 总结与展望
7.1 工作总结
7.2 未来工作的展望
参考文献
作者简历及在学期间所取得的科研成果