声明
摘要
第一章 前言
第二章 文献综述
2.1 引言
2.2 ZnO的基本性质
2.2.1 晶体结构和能带结构
2.2.2 电学性能
2.2.3 光学性能
2.2.4 其它性能
2.3 随机激射的研究进展
2.3.1 随机激射现象
2.3.2 随机激射的机理
2.3.3 随机激射的潜在应用
2.4 ZnO随机激射的研究进展
2.4.1 光抽运ZnO随机激射
2.4.2 电抽运ZnO随机激射
2.5 本章小结
第三章 材料与器件的制备方法及表征
3.1 器件的制备
3.1.1 ZnO薄膜
3.1.2 绝缘层
3.1.3 电极
3.2 薄膜与器件性能的表征方法
3.2.1 薄膜结构、形貌与组成
3.2.2 薄膜与器件的光学性能
3.2.3 器件电学性能
3.3 本章小结
第四章 利用Zn2TiO4纳米颗粒镶嵌增强ZnO薄膜MIS器件的电抽运随机激射
4.1 引言
4.2 ZnO薄膜、Zn2TiO4纳米颗粒镶嵌ZnO薄膜及其MIS器件的制备
4.3 薄膜的表征
4.4 MIS器件的电抽运随机激射
4.5 随机激射增强的机理
4.6 本章小结
第五章 利用表面织构化增强ZnO薄膜MIS器件的电抽运随机激射
5.1 引言
5.2 ZnO薄膜的表面织构化
5.3 表面织构化的表征
5.4 MIS器件的电抽运随机激射
5.5 随机激射增强的机理
5.6 表面织构化参数对ZnO薄膜MIS器件电抽运随机激射的影响
5.6.1 稀HCl浓度对ZnO薄膜MIS器件电抽运随机激射的影响
5.6.2 表面织构化处理时间对ZnO薄膜MIS器件电抽运随机激射的影响
5.6.3 表面织构化处理温度对ZnO薄膜MIS器件电抽运随机激射的影响
5.7 本章小结
第六章 ZnO薄膜厚度对其MIS器件电抽运随机激射的影响
6.1 引言
6.2 基于不同厚度(小于50 nm)的ZnO薄膜的MIS器件的电抽运随机激射
6.2.1 ZnO薄膜的表征
6.2.2 ZnO薄膜MIS器件的电抽运随机激射
6.2.3 薄膜厚度对器件电抽运随机激射影响的机理
6.3 基于不同厚度(大于100 nm)的ZnO薄膜的MIS器件的电抽运随机激射
6.3.1 ZnO薄膜的表征
6.3.2 ZnO薄膜MIS器件的电抽运随机激射
6.3.3 薄膜厚度对器件电抽运随机激射影响的机理
6.4 本章小结
第七章 基于双重SiO2/ZnO结构的发光器件的电抽运随机激射
7.1 引言
7.2 不同结构器件的制备
7.3 器件的电抽运随机激射
7.4 双重SiO2/ZnO结构提升器件电抽运随机激射性能的机理解释
7.5 本章小结
第八章 总结
参考文献
致谢
个人简历
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果