声明
学位论文的主要创新点
摘要
第一章 绪论
1.1 辐射聚合概述
1.1.1 辐射聚合的基本原理
1.1.2 辐射聚合的特点
1.1.3 辐射聚合在高分子合成中的应用
1.2 辐射改性
1.2.1 辐射接枝
1.2.2 辐射交联
1.2.3 辐射降解
1.2.4 辐射固化
1.3 分子印迹技术理论
1.3.1 分子印迹的基本原理
1.3.2 分子印迹技术分类
1.3.3 分子印迹技术的特点
1.3.4 分子印迹聚合物的制备方法
1.4 分子印迹技术的应用
1.4.1 色谱分离
1.4.2 固相萃取
1.4.3 药物分析
1.4.4 仿生传感器
1.4.5 模拟酶催化
1.4.6 分子印迹膜
1.5 本课题的选题意义及研究内容
第二章 辐射聚合制备槲皮素-镍(Ⅱ)金属配位分子印迹聚合物及其识别性能研究
2.1 引言
2.2 实验部分
2.2.1 实验试剂
2.2.2 实验仪器
2.2.3 紫外光谱研究
2.2.4 电子束辐射聚合制备槲皮素-镍(Ⅱ)分子印迹聚合物
2.2.5 红外光谱分析
2.2.6 透射电镜及扫描电镜分析
2.2.7 不同辐射剂量的印迹聚合物吸附动力学性能研究
2.2.8 印迹聚合物的平衡结合实验研究
2.2.9 印迹聚合物选择性结合能力的考察
2.3 结果与讨论
2.3.1 紫外光谱分析
2.3.2 聚合物的红外光谱研究
2.3.3 交联剂最佳用量的优化
2.3.4 不同辐射剂量的印迹聚合物的TEM和SEM分析
2.3.5 辐射剂量对印迹聚合物吸附动力学性能的影响
2.3.6 合成印迹聚合物的等温吸附曲线分析
2.3.7 不同辐射剂量的分子印迹聚合物对底物的选择性
2.4 本章小结
第三章 槲皮素金属配位分子印迹聚合物膜的制备及性能研究
3.1 引言
3.2 实验部分
3.2.1 实验试剂
3.2.2 主要仪器
3.2.3 镍-槲皮素配位分子印迹聚合物[P(Quercetin/Ni2+)]膜的制备
3.2.4 膜渗透实验
3.2.5 扫描电镜表征
3.3 结果与讨论
3.3.1 膜表面形态的表征
3.2.2 不同添加剂PEG用量下膜对底物的渗透性质
3.2.3 P(Quercetin-Ni2+)、P(Quercetin)和P(Blank)膜的渗透性能研究
3.2.4 P(Quercetin/Ni2+)膜对不同底物的透过选择性
3.3 本章小结
第四章 结论
参考文献
发表论文和参加科研情况
致谢