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第一章绪论
1.1发展历史及现状
1.1.1 RTD的发展历史及现状
1.1.2 MSM的发展与现状
1.1.3 HEMT的发展与现状
1.2待研究的光电逻辑单元电路
1.3本论文的任务
第二章RTD,HEMT和MSM器件工作原理
2.1 RTD的器件原理
2.1.1半导体超晶格
2.1.2 RTD的电流特性
2.1.3由RTD发展到RTT
2.1.4 RTD的特点
2.2 HEMT的结构及工作原理
2.3 MSM光电探测器
2.3.1 LT-GaAs MSM-PD
2.3.2 GaAs HMSM—PD
2.3.3引入内建电场型GaAs MSM-PD
2.3.4 ITO/GaAs MSM-PD
2.3.5窄FW、窄FS超高速GaAs MSM-PD
第三章器件设计模拟与测试
3.1 RTD设计
3.2 RTD器件模拟
3.3 HEMT设计
3.4 HEMT器件模拟
3.5 MSM设计
第四章工艺研制与版图设计
4.1单项工艺
4.1.1分子束外延技术(MBE)
4.1.2低压化学汽相淀积(LPCVD)
4.1.3真空磁控溅射
4.1.4光刻
4.1.5选择腐蚀技术
4.1.6正性抗蚀剂(正胶)与金属剥离工艺
4.1.7欧姆接触形成
4.2版图
4.3 RTD或RTD+HEMT+MSM工艺流程
第五章电路模拟与测试
5.1 RTD器件的电路模型
5.2 RTD电路特性
5.3电路模拟及测试结果
第六章总结
参考文献
发表论文和科研情况说明
附录
致谢