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第一章 文献综述
1.1水电解制氢的背景
1.2电解水用析氢阴极材料的发展现状
1.2.1铁基合金电极
1.2.2镍基合金电极
1.3 Ni-S合金电极的研究进展
1.4 Ni-S合金制备工艺中的关键因素
1.4.1基体材料的选择
1.4.2基体镀前预处理
1.4.3镀液配方
1.4.4电沉积工艺参数
1.4.5镀后处理工艺
1.4.6掺杂元素对Ni-S合金电极的影响
1.5本论文研究意义及研究内容
第二章 实验方法
2.1主要试剂
2.2实验方法
2.2.1镍电极的准备
2.2.2基体前处理
2.2.3电沉积过程
2.2.4镀后处理
2.2.5活化处理
2.3测试手段
2.3.1 Ni-S涂层的成分与结构分析
2.3.2电化学测量
2.3.3模拟工业电解装置测试
2.4电化学分析理论依据及相关计算
2.4.1 30%的KOH溶液中析氢的平衡电位计算
2.4.2HER的过电位ηH计算
2.4.3稳态极化曲线测定电极电化学参数的理论
第三章 电沉积工艺参数对涂层形貌、结构及析氢活性影响
3.1前言
3.2电沉积电流密度实验
3.2.1电流密度对镀层硫含量的影响
3.2.2不同电沉积电流密度下镀层显微形貌分析
3.2.3不同电沉积电流密度下镀层的XRD分析
3.2.4电沉积电流密度对镀层析氢性能的影响
3.3温度实验
3.3.1镀液温度对镀层硫含量的影响
3.3.2不同镀液温度下镀层显微形貌分析
3.3.3不同镀液温度下镀层的XRD分析
3.3.4镀液温度对镀层析氢性能的影响
3.4电沉积时间实验
3.4.1电沉积时间对镀层硫含量的影响
3.4.2不同电沉积时间下镀层显微形貌分析
3.4.3不同电沉积时间下镀层XRD分析
3.4.4电沉积时间对镀层析氢性能的影响
3.5 pH值实验
3.5.1镀液pH值对镀层硫含量的影响
3.5.2不同镀液pH值下镀层SEM分析
3.5.3不同镀液pH值下镀层的XRD分析
3.5.4镀液pH值对镀层析氢性能的影响
3.6硫脲浓度实验
3.6.1硫脲浓度对镀层硫含量的影响
3.6.2不同硫脲浓度下镀层的SEM分析
3.6.3不同硫脲浓度下镀层的XRD分析
3.6.4硫脲浓度对镀层析氢性能的影响
3.7镀层硫含量与析氢电位的关系
3.8小结
第四章 电解液温度及电解对镀层性能的影响
4.1电解液温度对镀层析氢性能的影响
4.2电解对镀层析氢性能的影响
4.2.1电解后镀层的XRD
4.2.2电解前后镀层的SEM分析
4.2.3电解前后镀层的析氢性能
4.3小结
第五章 试验报告
5.1实验目的
5.2实验方案
5.3实验步骤
5.4测试数据
5.5讨论
第六章 结论
参考文献
致谢