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第一章 绪论
第一节 阵列器
1.1.1 阵列器简介
1.1.2 Talbot效应光学阵列器发展简介
第二节 掺镁铌酸锂晶体简介
1.2.1 铌酸锂晶体的结构与性质
1.2.2 掺镁铌酸锂品体的结构与性质
1.2.3 铌酸锂晶体的压电特性和电光效应
第三节 本文研究概况
第二章 Talbot效应光学阵列器的理论研究
第一节 菲涅尔衍射及Talbot距离的计算
2.1.1 菲涅尔衍射理论
2.1.2 Talbot距离的计算
第二节 振幅型阵列器和固定位相差位相型阵列器
2.2.1 二维四边形振幅Talbot阵列器
2.2.2 二维六角形振幅Talbot阵列器
第三节 外加电场调节位相差的二维六角位相阵列器
2.3.1 外加电场调节位相差的二维六角位相阵列器
2.3.2 二维六角阵列器的分数Talbot效应
第三章 基于铌酸锂晶体可调位相差型位相阵列器的制备
第一节 掩模板的设计和光刻镀膜
3.1.1 掩模板的设计
3.1.2 利用掩模板光刻镀膜
第二节 外加电场极化
3.2.1 铁电畴在外加电场作用下的运动过程简介
3.2.2 铁电体中新畴成核模型的研究改进
3.2.3 外加电场极化法制作铌酸锂阵列器
3.2.4 晶体铁电畴的观察方法
第三节 ITO镀膜
3.3.1 ITO镀膜工艺
3.3.2 ITO/LiNbO3薄膜测试
第四章 铌酸锂晶体可调位相差阵列器的测试
第一节 实验方案的选择
第二节 外加电场作用下阵列器通光实验结果及分析
4.2.1 外加电场作用下阵列器通光实验结果
4.2.2 外加电场作用下阵列器通光实验结果分析
第五章 总结与展望
参考文献
致谢
个人简历