声明
摘要
第一章 绪论
第一节 引言
第二节 铌酸锂回音廊模式微腔的发展历史及研究现状
第三节 本文的研究内容及结构安排
第二章 回音廊模式微腔基本理论
第一节 回音廊模式微腔中的模式分布
第二节 回音廊模式微腔的主要参数
2.2.1 谐振波长(频率)和自由光谱范围FSR
2.2.2 品质因数Q
2.2.3 模式体积V
2.2.4 精细度F
第三节 品质因数Q的测量方法
2.3.1 腔衰荡谱法
2.3.2 线宽法
第四节 微腔耦合方法
第五节 本章小结
第三章 底切刻蚀铌酸锂微盘腔的制备与表征
第一节 铌酸锂微盘腔制备的实验方案
3.1.1 离子注入参数的选择
3.1.2 紫外光刻掩膜版的设计方案
3.1.3 底切刻蚀铌酸锂微盘腔的制作原理
第二节 铌酸锂微盘腔的加工流程
第三节 铌酸锂微盘腔的表征
第四节 横向刻蚀效果不理想的原因分析
第五节 本章小结
第四章 铌酸锂二氧化硅复合腔的制备与表征
第一节 铌酸锂二氧化硅复合腔的制备
4.1.1 反楔形二氧化硅微盘腔的制备
4.1.2 脉冲激光沉积制备铌酸锂薄膜
第二节 铌酸锂二氧化硅复合腔的表征
第三节 本章小结
第五章 回音廊模式微腔中二次谐波和参量震荡过程的基本理论
第一节 微腔波导耦合体系的耦合矩阵理论
第二节 回音廊模式微腔中的二次谐波过程
5.2.1 二次谐波效率解析表达式的推导
5.2.2 微腔内二次谐波过程数值计算结果与分析
第三节 回音廊模式微腔中的参量震荡过程
5.3.1 参量震荡效率解析表达式的推导
5.3.2 微腔内参量震荡过程数值计算结果与分析
第四节 泵浦光强和阈值的数值估算
第五节 本章小结
第六章 总结与展望
第一节 工作总结
第二节 工作展望
参考文献
致谢
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果