声明
摘要
1 绪论
1.1 研究背景
1.1.2 Ag膜的表面等离子体(SPP)效应
1.1.3 突破衍射极限的技术——超分辨技术
1.1.4 Ag膜的表面等离子体(SPP)效应——超透镜
1.2 Ag膜表面研究的国内外现状分析
1.3 薄膜制备方法
1.3.1 磁控溅射
1.3.2 电阻蒸发
1.3.2 电子束蒸发
1.4 薄膜表征
1.4.1 薄膜表面形貌
1.4.2 薄膜厚度测量
1.4.3 薄膜光学性质
1.5 本论文主要研究内容及创新点
2 理论模拟Ag层粗糙度对超分辨光刻成像的影响
引言
2.1 超分辨结构模型
2.2 数值模拟结果
2.2.1 银粗糙度对成像质量对比度的影响
2.2.2 银粗糙度对成像质量电场强度分布的影响
3 磁控溅射制备Ag膜及其性质的研究
3.1 磁控溅射制备Ag膜
3.1.1 基片清洗
3.1.2 实验过程
3.2 Ag薄膜表征
3.2.1 Ag薄膜厚度测量
3.2.2 Ag薄膜表面形貌及粗糙度
3.3 结果分析
3.3.1 溅射气压对薄膜沉积速率的影响
3.3.2 溅射功率对薄膜沉积速率的影响
3.3.3 溅射气压对薄膜表面形貌及粗糙度的影响
3.3.4 溅射功率对薄膜表面形貌及粗糙度的影响
3.4 本章小结
4 加入种子层(Cu)制备的Ag膜
4.1 引言
4.2 真空蒸发制备Ag膜和Gu:Ag膜
4.3 薄膜表面形貌
4.4 结果与讨论
4.5 本章小结
第五章 总结与展望
5.1 本文工作总结
5.2 展望
参考文献
致谢
在校期间的科研成果