基于多孔阳极氧化铝模板和紫外纳米压印的减反射膜制备技术

摘要

紫外纳米压印技术具有低成本、高分辨率、高产能等优点。压印的最小分辨率完全取决于模板的分辨率。压印模板一般采用电子束直写或者极紫外光刻等高分辨率的技术制备。可是这些技术成本高、速度慢。 多孔阳极氧化铝模板具有高度均匀的纳米级孔洞阵列结构，模板的制备技术非常成熟，各种参数在一定范围内可以进行调整。本文首次将这两项技术的优点整合起来，用多孔阳极氧化铝作为压印模板，通过紫外纳米压印技术制备出纳米级椭圆球状阵列结构。该亚波长结构可以安装在光电器件表面，用于减少光的反射，从而提高光电器件的工作效率。该亚波长减反射膜可以将硅基底表面大于30％的反射率降低到4％左右。