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1 绪论
1.1 钛及钛合金
1.1.1 钛及钛合金在工业领域的应用
1.1.2 钛及钛合金在工业领域应用中存在的问题
1.2TiN薄膜
1.2.1 TiN的特点与应用
1.2.2 TiN薄膜的研究现状
1.2.3 TiN薄膜的制备
1.2.4 磁控溅射技术
1.3 表面纳米化技术
1.3.1 表面纳米化的方法
1.3.2影响表面纳米化的因素
1.3.3表面纳米化对材料性能的影响
1.4选题及意义
1.5 课题研究的内容
2 TiN薄膜的制备与表征
2.1 实验材料
2.2 实验流程
2.3 试样处理
2.3.1 HESP处理
2.3.2真空退火处理
2.3.3抛光处理
2.4 涂层的制备
2.4.1 制备仪器
2.4.2 实验材料
2.4.3 制备过程
2.5 分析与测试
2.5.1 X射线衍射法
2.5.2 微观组织观察
2.5.3膜基结合力测试
2.5.4 纳米硬度和弹性模量测试
2.5.5 耐磨性能测试
3 HESP对TA2组织及力学性能的影响
3.1 HESP TA2的微观组织
3.1.1 HESP TA2横截面金相组织
3.1.2 TA2表面粗糙度
3.1.3 TA2表面的XRD分析
3.2HESP对TA2力学性能的影响
3.2.1 HESP对TA2表面硬度的影响
3.2.2 HESP对TA2表面残余应力的影响
3.3 退火对HESP TA2组织及力学性能的影响
3.3.1 退火对HESP TA2组织的影响
3.3.2 退火对HESP TA2力学性能的影响
3.5本章小结
4 HESP+抛光处理对TA2表面TiN薄膜组织及耐磨性能的影响
4.1 引言
4.2 TiN薄膜制备
4.3 HESP+抛光处理对TiN薄膜微观组织的影响
4.4 HESP+抛光处理对TiN薄膜膜基结合力的影响
4.5 HESP+抛光处理对TiN薄膜力学性能的影响
4.6 HESP+抛光处理对TiN薄膜耐磨性能的影响
4.7 本章小结
5 HESP+退火+抛光处理对TA2表面TiN薄膜组织与耐磨性能的影响
5.1 引言
5.2 HESP+退火+抛光处理对TiN薄膜微观组织的影响
5.3 HESP+退火+抛光处理对TiN薄膜膜基结合力的影响
5.4 HESP+退火+抛光对TiN薄膜力学性能的影响
5.5 HESP+退火+抛光对TiN薄膜耐磨性能的影响
5.6本章小结
6 HESP处理对TA2表面TiN薄膜组织与耐磨性能的影响
6.1 引言
6.2 HESP处理对TiN薄膜微观组织的影响
6.3 HESP处理对TiN薄膜膜基结合力的影响
6.4 HESP处理对TiN薄膜力学性能的影响
6.5 HESP处理对TiN薄膜耐磨性能的影响
6.6本章小结
7.1 引言
7.2 HESP+退火处理对TiN薄膜微观组织的影响
7.3 HESP+退火处理对TiN薄膜膜基结合力的影响
7.4 HESP+退火处理对TiN薄膜力学性能的影响
7.5 HESP残余应力对TiN薄膜耐磨性能的影响
7.6本章小结
8.1结论
8.2展望
致谢
参考文献
附录
