400A MeV20Ne诱发乳胶核反应靶核反冲质子发射过程中的非统计涨落研究

摘要

本文利用标度阶乘矩法对400A MeV20Ne诱发核乳胶核反应靶核反冲质子发射过程中的非统计涨落进行了实验研究，也给出了靶核反冲质子的发射角和方位角的角分布以及多重数分布。
　　 首先对400A MeV20Ne诱发乳胶核反应靶核反冲质子发射过程中的非统计涨落进行了研究，研究结果表明：在一维发射角空间和方位角空间的水平和垂直标度阶乘矩均随相空间分割数的增加而增加，存在非统计涨落，这可能是由于相空间内粒子分布的不均匀性引起。为了消除粒子分布不均匀性的影响，我们采用修正阶乘矩公式对实验结果进行了重新计算，结果表明修正后的标度阶乘矩随相空间分割数的增加而减小，不存在间歇行为。在二维相空间(cosθ-φ space)，水平和垂直标度阶乘矩均随相空间分割数的增加而增加，存在非统计涨落。为了消除粒子分布不均匀性的影响，我们利用累积变量法对二维标度阶乘矩作了修正，修正后的水平阶乘矩lncorrH随-ln[δXcosθXφ]的增加而增加，存在非统计涨落；修正后的垂直阶乘矩lncorrH随-ln[δXcosθXφ]的增加而减小，不存在非统计涨落。其次对400A MeV20Ne诱发核乳胶重靶(AgBr)核反应靶核反冲质子在不同相空间的发射过程中也进行了相应的研究，得出在一维、二维相空间内靶核反冲质子发射不存在非统计涨落。
　　 由此最后得出结论，400 A MeV20Ne诱发乳胶核反应作用靶核反冲质子的发射过程中不存在间歇性行为，即不存在非统计涨落。