钛酸盐类铁电薄膜的制备及其性能研究

摘要

强的ECs基本被完全去除，使处理后的瓣叶HLA-Ⅰ类、Ⅱ类抗原表达呈阴性，也说明处理后的瓣叶免疫原性显著降低；通过对瓣叶的生物力学分析，显示处理后的HV瓣叶与未处理的HV瓣叶在厚度、弹性模量、极限抗张力强度、断裂伸长率、应力松弛率等各指标中均无差别，说明本课题所采用的去内皮细胞方法基本可以达到既免除HV组织的免疫原性、又保留基质结构成分并保持组织生物力学特性的要求。 四、本课题的第二部分实验四应用受体MSCs体外诱导分化的ECs作为种子细胞，对HV的体外受体细胞化进行了初步尝试。 在第一部分研究的基础上，采用相同的方法，对人MSCs进行分离、纯化、培养、扩增，并在体外定向诱导分化为ECs，并将其高密度种植于采用第二部分实验三的方法脱去ECs并应用纤维连接蛋白进行预覆盖的人同种主动脉瓣瓣叶上，高糖DMEM培养液下培养24h，重复种植细胞1次，继续静态培养21天，进行组织学、免疫组织化学和电子显微镜检查。结果显示，瓣叶再细胞化达到95％以上，SEM下瓣叶表面的细胞呈卵圆形或长梭形，单层排列，立体感较强，排列较紧密，典型的“鹅卵石”特征，Ⅷ因子免疫组化染色呈阳性。本课题基本实现了HV体外再内皮化构建的预期目标，为下一步脉动流培养提供了材料基础。 旋涂(spin-coating)方法制备薄膜。与其它制膜方法相比，MOsD+spin-coatmg方法具有原料的选择范围广，价格较低；工艺简单，设备成木低；所制备的薄膜材料的化学计量比易于控制，均匀性好等诸多优点。非常适合于对铁电薄膜材料作基础性的研究。利用Pt或Au做电极材料，研究薄膜的电学性能。 本文的主要研究内容为：采用MOsD+spin-coating方法制备6种不同组分配比的薄膜。对其结构、形貌及其性能进行了探索性的研究。将最佳配比(Na0.8K<,0.2>)<,0.5>Bi<,0.5>TiO<,3>薄膜分别制备在Pt/TiO,,2>/siO<,2>/si、p-si及石英玻璃衬底上，并对其进行了厚度、结构、形貌、电流．电压、电容．电压、介电温谱、电滞回线、抗疲劳性、介电频谱及光学透过等方面的表征。另外还制备了掺Nd、Sm、Pr的Bi<,4>Ti<,3>O<,12>薄膜与si半导体的集成，并研究了其电学性能。为掺杂镧系元素的Bi<,4>Ti<,3>O<,12>薄膜在铁电场效应器件中的应用提供了必要的工作基础。

目录

文摘

英文文摘

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第一章绪论

第三章(Na1-xKx)0.5Bi0.5TiO3铁电薄膜的结构、形貌及电学性质

第四章(Na0.8K0.2)0.5Bi0.5TiO3薄膜在不同衬底上的性能研究

第五章Bi4-xAxTi3O12/Si结构的性能研究

第六章总结

参考文献

致谢

攻读博士学位期间发表的论文及相关科研成果