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第一章绪论
第一节自旋电子学简介
第二节磁性半导体简介
第三节Ge基磁性半导体的研究现状
第四节ZnO基磁性半导体的研究现状
第五节本文的研究动机和研究内容
参考文献:
第二章样品的主要制备技术与测量分析方法
第一节样品的主要制备技术
1.1分子束外延
1.2磁控溅射仪
第二节薄膜样品的结构和成分测量分析方法
2.1反射高能电子衍射(RHEED)
2.2 X射线衍射(XRD)
2.3透射电子显微镜(TEM)
2.4 X射线光电子能谱(XPS)
第三节薄膜样品的磁性测量分析方法
3.1超导量子干涉仪(SQUID)
3.2交变梯度磁强计(AGM)
第三章Mn掺杂Ge稀磁半导体的外延生长与性能研究
第一节引言
第二节Ge1-xMnx稀释磁性半导体薄膜的制备
第三节Ge1-xMnx稀释磁性半导体薄膜结构、磁性和输运性能研究
3.1结构特性
3.2磁特性
3.4输运特性
第四节小结
参考文献
第四章基于Ge1-xMnx单晶薄膜的p-n、p-i、p-p结输运性能的研究
第一节引言
第二节基于Ge1-xMnx单晶薄膜的p-n、p-i、p-p结的制备
第三节单晶Ge1-xMnx/Ge结的输运性质
第四节小结
参考文献
第五章高Mn含量的Ge1-xMnx非晶磁性半导体薄膜性能研究
第一节引言
第二节Ge1-xMnx非晶磁性半导体薄膜的制备
第三节Ge1-xMnx薄膜结构、成分、磁性及输运特性的研究
3.1结构、成分及价态
3.2磁特性
3.3输运特性
第四节小结
参考文献
第六章Co掺杂ZnO稀磁半导体的外延生长与性能研究
第一节引言
第二节Zn1-xCoxO单晶薄膜的制备过程
第三节Zn1-xCoxO单晶薄膜结构、成分、光学及室温铁磁性研究
3.1结构特性
3.2成分及化学价态特性
3.3光学特性
3.4磁性和输运特性
第四节小结
参考文献
第七章 高Fe含量Zn1-xFexO非匀质磁性半导体的性能研究
第一节引言
第二节高Fe含量Zn1-xFexO非匀质磁性半导体薄膜的制备过程
第三节 制备态与退火后的Zn1-xFexO薄膜的结构、磁性及输运特性的研究
3.1结构特性
3.2磁特性及输运特性
第四节小结
参考文献
第八章总结
致 谢
攻读博士学位期问发表的专业论文目录
发表论文一
发表论文二
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