晶体偏光器件增透膜研究

摘要

随着偏光技术的发展，晶体偏光器件得到了越来越多的应用。晶体偏光器件是利用晶体的双折射性质设计制成，具有消光比高，使用波段范围宽等优点。但是，晶体偏光棱镜的透射比一般小于90﹪，而且对于云母制作的1/4波片来说，表面较大的反射会造成延迟量和透射率的干涉振荡，这些都影响了晶体偏光器件的使用性能。增透膜可以减小器件表面的反射，提高透过率。为了改善晶体偏光器件的使用性能，本文研究了晶体偏光器件增透膜的设计、制备及测试。

目录

文摘

英文文摘

第一章绪论

第二章薄膜光学的基本理论

§2.1薄膜光学简介

§2.1.1薄膜光学的历史

§2.1.2薄膜光学的研究现状

§2.2薄膜光学的电磁理论基础

§2.2.1麦克斯韦方程

§2.2.2菲涅尔反射原理

§2.2.3E和H的边界条件

§2.3光学薄膜系统特性的计算方法

§2.4光学薄膜设计方法概述

§2.4.1矢量法

§2.4.2导纳匹配法

第三章晶体偏光器件增透膜的设计

§3.1概述

§3.2Glan-Taylor棱镜增透膜的设计

§3.2.1端面窄带增透膜的设计

§3.2.2斜面窄带增透膜的设计

§3.2.3宽带增透膜的设计

§3.3Wollaston棱镜增透膜的设计

§3.3.1概述

§3.3.2窄带增透膜的设计

§3.3.3宽带增透膜的设计

§3.4延迟器件增透膜的设计

§3.4.1云母1/4波片表面多次相干反射对延迟量和透过率的影响

§3.4.2增透膜的设计

第四章样品的制备、测试与分析

§4.1膜料附着力的研究

§4.2薄膜样品的制备

§4.3棱镜增透膜反射光谱的测试与分析

§4.3.1棱镜端面增透膜反射光谱的测试

§4.3.2Glan-Taylor棱镜斜面增透膜反射率的测试

§4.4云母1/4波片透过率及延迟量的测量与分析

§4.4.1透过率的测量

§4.4.2相位延迟量的测量

§4.5样品制备与测量误差定性分析

全文总结

参考文献

已完成的工作或发表的论文

致谢