声明
摘要
1 绪论
1.1 牙种植体
1.1.1 牙种植体的发展史
1.1.2 牙种植体材料
1.1.3 牙种植体的表面改性
1.1.4 表面润湿性对植入材料的生物相容性影响
1.2 钛与钛合金的微弧氧化
1.2.1 微弧氧化的发展史
1.2.2 微弧氧化的控制参数
1.2.3 微弧氧化的机理
1.2.4 钛与钛合金的微弧氧化研究
1.3 本课题研究的目的和内容
1.3.1 本课题研究的目的
1.3.2 本课题研究的内容
2 实验材料与研究方法
2.1 实验仪器材料
2.2 实验研究方法
2.2.1 实验研究路线
2.2.2 实验研究方法
3 大脑状多孔二氧化钛膜层的制备与表征
3.1 前言
3.2 制备大脑状形貌氧化膜
3.2.1 钛片预处理
3.2.2 配置电解溶液
3.2.3 样品的制备
3.2.4 细胞培养
3.3 实验结果和讨论
3.3.1 微弧氧化时间对膜层形貌和膜层厚度的影响
3.3.2微弧氧化时间对相结构的影响
3.3.3 四硼酸钠电解液的作用机理
3.3.4 微弧氧化时间对润湿性的影响
3.3.5 微弧氧化时间对吸水性的影响
3.3.6 大脑皮层状形貌对细胞粘附性的研究
3.4 本章小结
4 电解液浓度对纯钛微弧氧化大脑状多孔二氧化钛膜层性能的影响
4.1 前言
4.2 改变电解液浓度制备大脑状形貌氧化膜
4.2.1 钛片预处理
4.2.2 配置电解溶液
4.2.3 样品的制备
4.3 实验结果和讨论
4.3.1 电解液浓度对形貌的影响
4.3.2 电解液浓度对膜层厚度的影响
4.3.3 电解液浓度对相组成的影响
4.3.4 电解液浓度对浸润性的影响
4.4 本章小结
5 电源脉冲频率对纯钛微弧氧化大脑状多孔二氧化钛膜层性能的影响
5.1 前言
5.2 改变电源脉冲频率制备大脑状形貌氧化膜
5.2.1 钛片预处理
5.2.2 配置电解溶液
5.2.3 样品的制备
5.3 实验结果和讨论
5.3.1 电源脉冲频率对形貌的影响
5.3.2 电源脉冲频率对膜层厚度的影响
5.3.3 电源脉冲频率对相结构的影响
5.3.4 电源脉冲频率对浸润性的影响
5.4 本章小结
6 电源占空比对纯钛微弧氧化大脑状多孔二氧化钛膜层性能的影响
6.1 前言
6.2 改变电源占空比制备大脑状形貌氧化膜
6.2.1 钛片预处理
6.2.2 配置电解溶液
6.2.3 样品的制备
6.3 实验结果和讨论
6.3.1 占空比对形貌的影响
6.3.2 占空比对膜层厚度的影响
6.3.3 占空比对相结构的影响
6.3.4 占空比对浸润性的影响
6.4 本章小结
结论
参考文献
攻读硕士学位期间发表学术论文情况
致谢