声明
摘要
1 绪论
1.1 低温等离子体
1.1.1 低温等离子体源
1.1.2 低温等离子体与微电子工业
1.2 低温等离子体刻蚀与沉积技术
1.2.1 低温等离子体薄膜刻蚀技术
1.2.2 低温等离子体薄膜沉积技术
1.3 脉冲调制射频等离子体的研究背景及进展
1.3.1 脉冲调制射频等离子体的应用背景
1.3.2 脉冲调制射频等离子体实验及模拟的研究进展
2 模拟方法及物理模型
2.1 流体力学模型
2.2 电子蒙特卡罗模型
2.3 流体/电子蒙特卡罗混合模型
2.4 腔室结构
2.5 化学反应
3 脉冲调制射频H2放电混合模型模拟
3.1 脉冲占空比对等离子体性质的影响
3.1.1 对电子温度、电子密度的影响
3.1.2 对电子能量几率分布的影响
3.1.3 对离子密度的影响
3.1.4 对电场、电势的影响
3.2 脉冲频率对等离子体性质的影响
3.2.1 对电子温度、电子密度的影响
3.2.2 对电子能量几率分布的影响
3.2.3 对离子密度的影响
3.2.4 对电场、电势的影响
3.3 气压对等离子体性质的影响
3.3.1 对电子温度、电子密度的影响
3.3.2 对电子能量几率分布的影响
3.3.3 对离子密度的影响
3.3.4 对电场、电势的影响
3.4 电压对等离子体性质的影响
3.4.1 对电子温度、电子密度的影响
3.4.2 对电子能量几率分布的影响
3.4.3 对离子密度的影响
3.4.4 对电场、电势的影响
结论
参考文献
攻读硕士学位期间发表学术论文情况
致谢
大连理工大学;