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第一章 绪论
1.1 导电聚合物简介
1.1.1 导电聚合物概述
1.1.2 导电聚合物的掺杂及导电机理
1.1.3 导电聚合物的合成
1.2 聚吡咯简介
1.2.1 聚吡咯概述
1.2.2 聚吡咯的电化学聚合机制
1.3 聚吡咯的应用
1.4 聚吡咯的发展趋势
1.5 论文内容、目的及意义
1.5.1 内容
1.5.2 目的及意义
第二章 实验影响因素与表征方法
2.1 影响聚吡咯电化学聚合的因素
2.1.1 电化学聚合方式
2.1.2 基底材料的选择与处理
2.1.3 对阴离子的种类与浓度
2.1.4 溶剂的性质与溶液的pH值
2.1.5 聚合时间及外界温度
2.2 聚吡咯薄膜的表征技术
2.2.1 光谱学原理
2.2.2 热学性能表征技术
2.2.3 四探针测试原理
2.2.4 纳米压痕技术
2.2.5 纳米电学测试的基本原理
2.3 本章小节
第三章 聚吡咯薄膜制备与性能表征
3.1 实验试剂与仪器
3.1.1 实验主要的试剂
3.1.2 实验仪器与设备
3.1.3 三电极体系
3.2 聚吡咯薄膜的电化学合成实验
3.2.1 制备方法
3.2.2 电化学制备聚吡咯薄膜的临界条件的确定
3.2.3 实验参数的选择
3.3 聚吡咯薄膜的拉曼光谱与FT-IR光谱研究
3.3.1 不同对阴离子掺杂的聚吡咯薄膜的光谱研究
3.3.2 不同电位下制备的聚吡咯薄膜的光谱研究
3.4 聚吡咯薄膜表面形貌的研究
3.4.1 不同掺杂离子对薄膜表面形貌的影响
3.4.2 基底对薄膜表面形貌的影响
3.5 聚吡咯薄膜的热学稳定性
3.6 本章小节
第四章 聚吡咯的电学与力学行为研究
4.1 聚吡咯薄膜的电学性能
4.2 聚吡咯薄膜的纳米力学研究
4.2.1 基底的纳米压痕研究
4.2.2 聚吡咯薄膜表面的均匀性对力学性能的影响
4.2.3 不同对阴离子掺杂的聚吡咯薄膜的纳米压痕研究
4.2.4 不同聚合时间的聚吡咯薄膜的纳米压痕研究
4.2.5 聚吡咯薄膜的抗划性能
4.3 聚吡咯薄膜的力-电耦合性能
4.3.1 聚吡咯薄膜与硅基底的微观Ⅳ特性研究
4.3.2 不同外加电场下聚吡咯薄膜的力学-电学特性
4.3.3 外加电场下加载速率对聚吡咯薄膜的力学-电学特性的影响
4.4 本章小节
第五章 总结与展望
5.1 总结
5.2 展望
参考文献
致谢
读研期间已发表的论文