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纳米柱状二氧化硅减反射薄膜的制备工艺研究

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摘要

第一章 绪论

1.1 光学薄膜的发展介绍

1.2 光学薄膜的分类

1.2.1 减反射膜

1.2.2 高反膜

1.2.3 分光膜

1.2.4 滤光膜

1.3 光学薄膜的应用

1.3.1 光学薄膜在太阳能电池中的应用

1.3.2 光学薄膜在光通信中的应用

1.3.3 光学薄膜在液晶显示中的应用

1.4 本论文研究的主要内容

1.5 论文的结构安排

第二章 减反射薄膜

2.1 传统减反射薄膜

2.1.1 光的反射定律和折射定律

2.1.2 单层减反射薄膜

2.1.3 多层减反射薄膜

2.2 纳米柱状结构减反射薄膜

2.2.1 纳米柱状减反射薄膜介绍

2.2.2 纳米柱状减反射薄膜形成机理

2.2.3 多层纳米柱状减反射薄膜

第三章 光学薄膜的制备

3.1 真空镀膜技术

3.1.1 真空的定义与表示

3.1.2 真空的获得与测量

3.1.3 薄膜制备的物理方法

3.1.4 薄膜制备的化学方法

3.2 薄膜的形成与生长

3.2.1 形核

3.2.2 薄膜的生长过程

3.2.3 薄膜的生长模式

3.3 纳米柱状SiO2薄膜的制备工艺

3.3.1 实验设备

3.3.2 制备纳米柱状SiO2减反射薄膜的工艺参数

3.3.3 实验流程

3.3.4 使用真空镀膜机的注意事项及日常维护

第四章 不同膜厚纳米柱状SiO2薄膜的减反射性能分析

4.1 以硅片为衬底不同膜厚样品分析

4.1.1 不同膜厚薄膜的反射率曲线

4.1.2 实验结果分析

4.2 以石英片为村底不同膜厚样品分析

4.2.1 不同膜厚薄膜的透过率曲线

4.2.2 实验结果分析

4.3 不同膜厚纳米柱状SiO2薄膜实验总结

第五章 改变工艺制备纳米柱状SiO2减反射薄膜的研究

5.1 不同沉积速率对纳米柱状SiO2薄膜的影响

5.1.1 不同沉积速率制备薄膜的实验结果

5.1.2 实验结果分析

5.2 不同基底旋转速度对纳米柱状SiO2薄膜的影响

5.2.1 不同基底旋转速度制备薄膜的实验结果

5.2.2 实验结果分析

5.3 改变工艺制备纳米柱状SiO2薄膜实验总结

第六章 总结与展望

6.1 论文工作总结

6.2 实验中存在的问题和展望

致谢

参考文献

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