声明
摘要
第一章：绪论
1．1 选题的科学依据及意义
1．2 光波导放大器的结构、基本原理及其优点
1．3 镱铒共掺光波导基体的选折
1．4 国内外研究现状
1．5 本文的主要工作与内容
第二章：镱铒共掺光波导的理论分析
2．1 镱铒共掺光波导放大器的工作原理
2．1．1 铒离子的能级结构
2．1．2 影响Er3+放大效率的主要因素
2．1．3 镱离子的敏化作用
2．2 Yb3+—Er3+共掺系统速率方程
2．3 放大器参量与仿真结果分析
2．3．1 增益与掺铒浓度的关系
2．3．2 泵浦功率与波导长度的关系
2．3．3 增益与波导截面的关系
2．4 结论
第三章：平面光波导的制作与研究
3．1 光波导制作的一般工艺步骤
3．1．1 光刻技术
3．1．2 刻蚀
3．2 平面光波导制备实验
3．2．1 光刻
3．2．2 金属掩膜制作
3．2．3 刻蚀
3．3 总结
第四章：Yb∶Er共掺薄膜的制备
4．1 掺杂薄膜的生长
4．1．1 掺杂薄膜制备工艺简介
4．1．2 磁控溅射原理
4．1．3 磁控溅射工艺流程
4．2 磁控溅射制各镱铒共掺氧化铝薄膜制备
4．2．1 工艺参数对溅射薄膜的影响以及参数选择
4．2．2 薄膜质量分析
4．2．3 光致发光谱测量
4．3 结论
第五章：总结和展望
5．1 全文总结
5．2 发展展望
致谢
在校期间参加的科研项目
参考文献
东南大学;
