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第一章绪论
§1.1引言
§1.2 GaInNAs半导体激光器的发展
§1.3 GaInNAs半导体激光材料的特性概述
§1.4 GaInNAs材料的应用前景
§1.5本论文研究的主要工作
第二章1.31μmGaInNAs应变量子阱材料特性研究
§2.1量子阱半导体激光器的主要特性分析
§2.2应变对量子阱材料特性的影响
§2.3 GaInNAs/GaAs应变量子阱材料的特性
第三章1.31μm应变量子阱GaInNAs激光器的结构设计
§3.1激光器芯片的材料结构
§3.2谐振腔结构设计
§3.3激光器的散热系统设计
§3.4激光器的完整装配结构
第四章1.31μm GaInNAs应变量子阱激光器的制作
§4.1 GaInNAs应变量子阱材料的生长
§4.2脊形波导的制作
§4.3脉冲阳极氧化工艺制备绝缘膜
§4.4欧姆接触层的制备
§4.5装片与内引线键合
第五章1.31μm GaInNAs应变量子阱激光器的特性评价
§5.1 GaInNAs应变单量子阱材料的特性测试
§5.2 1.31μm GaInNAs应变单量子阱激光器的特性
§5.3脉冲阳极氧化对激光器芯片结构的影响
第六章结论
致 谢
参考文献