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第一章绪论
1.1微弧氧化技术介绍
1.1.1微弧氧化工艺与阳极氧化工艺的比较
1.1.2微弧氧化的机理
1.2微弧氧化膜的形成过程
1.3微弧氧化陶瓷膜的结构与特性
1.4微弧氧化技术的发展及现状
1.5微弧氧化的应用及展望
1.6本课题涉及的基本知识简介
1.7本课题研究目的及意义
第二章实验设备及试样材料
2.1微弧氧化设备
2.2实验仪器及测试设备
2.3实验材料
第三章实验方法
3.1实验的技术路线
3.2试样的制备
3.3电解液的配制
3.4微弧氧化工艺方法及过程
3.5实验中所用的检测方法
第四章电解液参数对微弧氧化膜层质量的影响分析
4.1 Na2SiO3浓度对膜层质量的影响
4.2 KOH浓度对膜层质量的影响
4.3 H2O2浓度对膜层质量的影响
4.4 CuO浓度对膜层质量的影响
第五章微弧氧化膜层的生长过程和物质结构分析
5.1微弧氧化膜层的生长过程分析
5.2微弧氧化膜层的物质结构分析
第六章微弧氧化膜层的磨损实验分析
6.1材料的磨损及其分类
6.2材料的耐磨性及评定方法
6.3磨损试验及分析
第七章结论
参考文献
致谢
硕士期间发表的论文